晶圆激光打码机背景
高端制造

晶圆激光打码机 ZY-WAF200

高精度 · 高可靠 · 支持SECS-GEM

最小字高

0.15mm

整机定位精度

±0.05mm

支持材料

Si / GaAs / SiC / GaN

ZY-WAF200晶圆激光打码机采用皮秒激光源,实现超精细标记,适用于各类半导体晶圆制程。系统集成视觉定位、自动上下料与SECS-GEM通信,满足现代晶圆厂的高标准生产需求。

半导体激光打码系统

专为半导体行业设计的高精度激光打码解决方案,满足晶圆、芯片与封装的严苛标识需求

SEMI OCR 专用字体

提升识读率与一致性,适配主流读码器。我们的系统采用符合半导体行业标准的专用字体,确保在各类读码设备下均能实现高识别率。

SECS-GEM 通信

即插即用接入MES,支持设备状态/配方/追溯。完全符合半导体设备通信标准,实现生产数据的实时监控与管理,提升生产效率。

自动上下料系统

减少人机接触,降低碎片与污染风险。全自动化操作流程,适配FOUP/FOSB等标准载具,保障晶圆与芯片在加工过程中的完整性。

FFU过滤模块

洁净送风,保障打码与读码稳定性。内置高效过滤单元,提供ISO Class 5级洁净环境,有效防止粉尘对激光打码质量的影响。

0.15 mm 最小字高

在薄片与小DIE上实现清晰可读标记。超精细激光聚焦技术,即使在极小的芯片表面也能实现高对比度、高清晰度的永久性标识。

±0.05 mm 整机定位精度

确保标记位置一致与良率。高精度视觉定位系统与精密运动控制平台相结合,保证批量生产中每个标记的位置精确一致。

核心参数

ZY-WAF200 晶圆激光打码机技术规格

技术参数表

项目 参数
产品型号 ZY-WAF200
激光功率 5 W
激光波长 355 nm / 532 nm
最小字高 0.15 mm
晶圆尺寸 ≤ 12 吋
晶圆厚度 200 ~ 700 μm
整机定位精度 ±0.05 mm

注:更多工艺窗口(能量、频率、扫描速度、焦距等)可在试样评估中给出推荐配方区间。

为什么选择ZY-WAF200?

ZY-WAF200采用先进的皮秒激光技术,实现超精细标记,热影响区极小。配合高精度视觉定位系统,确保在各类半导体材料上实现稳定、清晰的打码效果,满足现代晶圆制造的严苛要求。

常见问题

激光打标系统常见技术问题解答

最小可标记字符多小?

标配可达 0.15 mm 字高;更小字符需评估材料与读码距离。

字符大小 精度

会影响器件性能吗?

采用短脉冲/紫外波长与优化能量密度,热影响区小;关键器件建议先做样张与可靠性测试。

热影响 可靠性

如何接入MES?

支持 SECS-GEM,按对接指南配置变量与事件,上线周期短。

系统集成 自动化

不同材料是否需要更换配置?

材料不同对吸收率与对比度有差异,可通过配方(功率/频率/速度/焦距)与波长选配解决。

材料适配 参数配置

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